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电子显微镜

发布日期:2019-10-29 作者: 点击:

现在电子显微镜最大放大倍率超过1500万倍,

1931年,德国的M.诺尔和E.鲁斯卡,用冷阴极放电电子源和三个电子透镜改装了一台高压示波器,并获得了放大十几倍的图象,发明的是透射电镜,证实了电子显微镜放大成像的可能性。1932年,经过鲁斯卡的改进,电子显微镜的分辨能力达到了50纳米,约为当时光学显微镜分辨本领的十倍,突破了光学显微镜分辨极限,于是电子显微镜开始受到人们的重视。

到了二十世纪40年代,美国的希尔用消像散器补偿电子透镜的旋转不对称性,使电子显微镜的分辨本领有了新的突破,逐步达到了现代水平。在中国,1958年研制成功透射式电子显微镜,其分辨本领为3纳米,1979年又制成分辨本领为0.3纳米的大型电子显微镜。上海显微镜

电子显微镜的分辨本领虽已远胜于光学显微镜,但电子显微镜因需在真空条件下工作,所以很难观察活的生物,而且电子束的照射也会使生物样品受到辐照损伤。其他的问题,如电子枪亮度和电子透镜质量的提高等问题也有待继续研究。

场发射扫描电子显微镜

主要用途: 该仪器具有超高分辨率,能做各种固态样品表面形貌的二次电子象、反射电子象观察及图像处理。 具有高性能x射线能谱仪,能同时进行样品表层的微区点线面元素的定性、半定量及定量分析,具有形貌、化学组分综合分析能力。

仪器类别: 03040702 /仪器仪表/光学仪器 /电子光学及离子光学仪器

指标信息: 二次电子象分辨率:1.5nm 加速电压:0~30kV 放大倍数:10-50万倍连续可调工作距离:5~35mm连续可调倾斜:-5°~45° x射线能谱仪: 分辨率:133eV 分析范围:B-U

附件信息: 镀金镀炭仪 ISIS图像处理系统背散射探头

场发射扫描电镜,由于分辨率高,为纳米材料的研究提供了可靠的实验手段。另外,对半导体材料和绝缘体,都能得到满意的图像,对超导薄膜,磁性材料,分子束外延生长的薄膜材料,半导体材料进行了形貌观察,并对多种材料进行了微区成份分析,均能得到满意的结果


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